China inicia produção de máquinas DUV próprias e avança sobre gargalo estratégico dos chips de IA
Grupo estatal de Xangai pretende entregar os primeiros equipamentos à SMIC, Hua Hong e CXMT ainda em 2026; tecnologia permanece atrás da ASML, mas reduz uma das principais vulnerabilidades da cadeia chinesa de semicondutores
A China começou a produzir máquinas domésticas de litografia ultravioleta profunda por imersão, conhecidas como DUV, em um avanço estratégico para reduzir sua dependência de equipamentos estrangeiros empregados na fabricação de semicondutores.
As primeiras unidades deverão ser entregues ainda em 2026 à SMIC, maior fabricante chinesa de chips, à Hua Hong Semiconductor e à produtora de memórias ChangXin Memory Technologies — CXMT. A produção inicial será limitada a aproximadamente cinco máquinas neste ano, com a previsão de alcançar cerca de 20 unidades em 2027.
A iniciativa representa uma das movimentações mais importantes da China nas camadas profundas da cadeia de inteligência artificial. Pequim já dispõe de empresas capazes de projetar aceleradores, construir servidores e operar grandes centros de dados, mas permanece dependente de tecnologias estrangeiras em etapas essenciais da fabricação dos componentes.
A litografia é uma dessas etapas. As máquinas projetam sobre as lâminas de silício os padrões microscópicos que formam os bilhões de transistores de um processador. Quanto maior a precisão, mais avançados, eficientes e potentes podem ser os chips produzidos.
Aishengna, e não apenas Yuliangsheng, lidera produção
Os primeiros relatos atribuíram o avanço à empresa Yuliangsheng, companhia de Xangai ligada à fabricante de equipamentos SiCarrier e, indiretamente, ao ecossistema tecnológico da Huawei.
Informações posteriores obtidas pela Reuters identificaram, entretanto, a Shanghai Aishengna Electronic Technology Group como a empresa responsável por liderar a produção. O grupo estatal teria incorporado equipes provenientes tanto da Yuliangsheng quanto da Shanghai Micro Electronics Equipment — SMEE, tradicional fabricante chinesa de equipamentos de litografia.
A Aishengna foi criada em agosto de 2023, com capital registrado de 7 bilhões de yuans, aproximadamente US$ 1 bilhão. Seus dois acionistas são entidades estatais: a Shanghai Electric Holding e uma subsidiária da Shanghai International Trust.
A companhia mantém um perfil extremamente discreto. Não possui página pública conhecida e não divulgou informações detalhadas sobre seus produtos, instalações ou capacidade industrial. A Reuters informou que Aishengna e Yuliangsheng compartilham um endereço em Xangai, enquanto a segunda é afiliada à SiCarrier, empresa apoiada pela Huawei.
Assim, a expressão “ASML chinesa” ajuda a explicar a ambição do projeto, mas simplifica uma estrutura mais complexa. A China parece estar concentrando equipes, conhecimento e recursos de diferentes empresas em torno de um grupo estatal incumbido de superar um dos maiores gargalos tecnológicos do país.
Como funciona a litografia DUV por imersão
As máquinas DUV por imersão utilizam luz ultravioleta com comprimento de onda de 193 nanômetros. Uma fina camada de água é colocada entre a lente de projeção e a lâmina de silício, aumentando a resolução óptica e permitindo imprimir padrões menores do que os produzidos pelos sistemas DUV secos.
A tecnologia não equivale à litografia ultravioleta extrema — EUV — empregada na produção dos chips mais avançados do mundo. A China está impedida de adquirir máquinas EUV da empresa neerlandesa ASML, única fornecedora comercial desses equipamentos.
As DUV de imersão, entretanto, continuam essenciais para uma ampla variedade de componentes. Também podem ser usadas na fabricação de chips mais avançados por meio do chamado multipatterning, processo no qual a mesma camada é exposta várias vezes para formar estruturas menores do que aquelas obtidas em uma única exposição.
É dessa maneira que a SMIC conseguiu produzir chips classificados como de 7 nanômetros sem acesso à tecnologia EUV. O método, porém, exige mais máscaras, mais etapas de fabricação e um alinhamento extremamente preciso entre as sucessivas exposições. Isso aumenta o tempo, o custo e a probabilidade de defeitos.
Máquina chinesa é comparável a uma geração antiga da ASML
O equipamento testado anteriormente pela SMIC e associado à Yuliangsheng foi descrito como uma máquina adequada a processos de aproximadamente 28 nanômetros. Com múltiplas exposições, poderia ser utilizada para fabricar chips de 7 nanômetros e, possivelmente, componentes ainda menores, mas com menor produtividade e rendimento.
Analistas compararam sua capacidade à das primeiras gerações da família TWINSCAN NXT da ASML, introduzidas no mercado há mais de uma década.
A máquina ASML NXT:1980Di, frequentemente usada como referência nas comparações, possui uma lente com abertura numérica de 1,35 e resolução de produção entre 38 e 40 nanômetros. O equipamento pode trabalhar com processos menores por meio de técnicas de exposição múltipla e de outras etapas de fabricação.
A comparação não significa que a máquina chinesa reproduza integralmente o desempenho do modelo da ASML. Além da resolução, uma ferramenta de litografia precisa demonstrar precisão de sobreposição entre as exposições, estabilidade, velocidade, disponibilidade operacional e capacidade de processar milhares de lâminas com resultados uniformes.
A própria fonte ouvida pela Reuters advertiu que o sistema da Aishengna ainda precisa passar por testes e permanece distante dos modelos concorrentes da ASML.
Da máquina ao acelerador de inteligência artificial
A importância da nova tecnologia pode ser compreendida por uma comparação simplificada entre as cadeias ocidental e chinesa.
No sistema internacional, a ASML fornece as máquinas de litografia utilizadas por fabricantes como a taiwanesa TSMC. A TSMC, por sua vez, produz os chips projetados por empresas como Nvidia, AMD e Apple.
Na arquitetura que Pequim procura construir, a Aishengna, a Yuliangsheng, a SiCarrier e outras fabricantes nacionais forneceriam os equipamentos à SMIC. A SMIC produziria processadores projetados pela Huawei, incluindo os aceleradores da família Ascend destinados aos centros de inteligência artificial.
A Huawei já voltou ao mercado de processadores avançados com chips de 7 nanômetros produzidos pela SMIC. A empresa também se transformou na principal alternativa nacional aos aceleradores da Nvidia no mercado chinês de IA.
A analogia, portanto, poderia ser resumida da seguinte forma:
- ASML → TSMC → Nvidia
- Aishengna/SiCarrier → SMIC → Huawei
As duas cadeias, contudo, ainda não são equivalentes em desempenho. A indústria ocidental e asiática associada à ASML e à TSMC permanece à frente em litografia EUV, rendimento de fabricação, eficiência energética e produção de chips nos processos mais avançados.
Produção chinesa ainda é pequena diante da ASML
A escala inicialmente planejada pela Aishengna também permanece muito inferior à da ASML.
A companhia chinesa pretende produzir cerca de cinco máquinas em 2026 e aproximadamente 20 em 2027. Já a ASML reconheceu receita sobre 279 sistemas DUV em 2025, dos quais 47% eram equipamentos de imersão — aproximadamente 131 unidades. A empresa também reconheceu receita sobre 48 sistemas EUV no mesmo período.
Esses números colocam em perspectiva a expressão “produção em massa”. A China ultrapassou a fase de construir apenas um protótipo experimental e começou a organizar uma produção industrial, mas ainda não alcançou uma escala comparável à da líder neerlandesa.
A notícia provocou forte reação nos mercados. As ações da ASML chegaram a cair mais de 7% após a divulgação inicial, enquanto outras empresas ligadas à cadeia de equipamentos de semicondutores também registraram perdas. Analistas, porém, consideraram exagerada a interpretação de que a nova máquina representaria uma ameaça comercial imediata à companhia europeia.
Produzir a máquina é apenas o começo
Um scanner de litografia não pode simplesmente ser instalado em uma fábrica e começar imediatamente a produzir chips avançados em grande volume.
Cada equipamento precisa ser calibrado e integrado às condições específicas da linha industrial. A precisão deve ser ajustada à combinação de máscaras, materiais, processos químicos, equipamentos de gravação e sistemas de medição utilizados pela fábrica.
Segundo fontes ouvidas pelo Financial Times, uma nova máquina DUV pode exigir pelo menos um ano de ajustes antes de alcançar estabilidade e rendimento suficientes para uma produção comercial.
O desafio central será demonstrar quatro capacidades:
- rendimento: porcentagem de chips funcionais obtidos em cada lâmina;
- sobreposição: precisão entre as sucessivas exposições;
- produtividade: quantidade de lâminas processadas por hora;
- confiabilidade: capacidade de funcionar continuamente com poucas interrupções.
Produzir cinco ou 20 scanners é muito diferente de mantê-los operacionais durante milhares de ciclos com resultados previsíveis.
Analistas do JPMorgan observaram que fabricar algumas unidades não equivale a fornecer equipamentos adequados à produção em grande volume, na qual rendimento, velocidade, precisão e confiabilidade são determinantes.
Componentes estrangeiros continuam necessários
O esforço chinês também não é totalmente independente.
A maioria dos componentes da máquina testada pela Yuliangsheng seria produzida domesticamente, mas algumas peças continuavam sendo importadas. A empresa estaria trabalhando para substituir esses elementos por alternativas chinesas.
A construção de um scanner avançado exige sistemas ópticos, fontes de luz, estágios de movimentação, sensores, motores de precisão, programas de controle e componentes capazes de operar com tolerâncias medidas em nanômetros.
A necessidade de peças estrangeiras significa que a China reduziu uma vulnerabilidade importante, mas ainda não eliminou todos os pontos de dependência de sua cadeia industrial.
MATCH Act aumenta pressão sobre ferramentas importadas
O avanço ocorre enquanto legisladores americanos discutem novas restrições à venda e à manutenção de equipamentos estrangeiros instalados em fábricas chinesas.
O projeto denominado MATCH Act pretende alinhar os controles dos Estados Unidos aos adotados por países fornecedores, especialmente Países Baixos e Japão. A versão revisada mantém uma restrição nacional sobre a venda de máquinas DUV de imersão da ASML à China e amplia o controle sobre o atendimento a determinadas instalações.
A versão atual, no entanto, não estabelece automaticamente uma proibição absoluta de todos os serviços. Ela exige licenças para a manutenção de equipamentos em fábricas abrangidas pelas restrições, sem impor uma política obrigatória de rejeição de todos os pedidos.
Ainda assim, a possibilidade de perder acesso a peças, atualizações e assistência técnica aumenta o valor estratégico das máquinas chinesas. Um equipamento doméstico menos avançado poderá ser preferível a uma máquina estrangeira superior que não possa ser reparada ou atualizada.
EUV continua sendo a grande distância tecnológica
A produção doméstica de DUV não resolve o principal atraso chinês na fabricação de semicondutores.
A ASML continua sendo a única empresa capaz de fornecer sistemas EUV comercialmente em escala. Esses equipamentos usam luz com comprimento de onda de 13,5 nanômetros e permitem produzir estruturas extremamente pequenas com menos exposições do que seriam necessárias usando DUV.
A China desenvolveu um protótipo próprio de máquina EUV, mas o sistema ainda estaria a anos de uma aplicação industrial.
Enquanto isso, o uso de DUV com múltiplos padrões pode manter a produção chinesa em processos de 7 nanômetros e sustentar parte da demanda por aceleradores de IA, processadores de telecomunicações e componentes militares.
O preço será uma fabricação mais cara, lenta e menos eficiente do que aquela realizada com equipamentos EUV modernos.
Avanço muda o cálculo de longo prazo
O significado da máquina da Aishengna não está apenas em sua capacidade atual, mas no processo industrial que ela inicia.
A China poderá utilizar as primeiras unidades para formar engenheiros, identificar falhas, desenvolver fornecedores, melhorar componentes e acumular experiência operacional. Cada geração poderá servir de base para uma versão mais rápida, precisa e confiável.
Em uma inferência estratégica, caso o país consiga elevar gradualmente a produção e melhorar o rendimento das fábricas, poderá ampliar sua capacidade de computação doméstica mesmo sem alcançar imediatamente a fronteira tecnológica ocidental. A escala de centros de dados e a integração de muitos chips menos eficientes podem compensar parcialmente a diferença de desempenho individual.
A nova máquina não coloca a China em igualdade com a ASML, a TSMC ou a Nvidia. Também não elimina a dependência de tecnologias estrangeiras nem assegura que os equipamentos serão capazes de produzir chips avançados com rendimento comercial.
Mas representa um marco relevante: uma das peças mais difíceis da cadeia chinesa de inteligência artificial começou a sair dos laboratórios e entrar na produção industrial.
O desafio de Pequim passa agora de demonstrar que consegue construir uma máquina para provar que pode fabricá-la, instalá-la, mantê-la e utilizá-la em escala.■
Seria um gigantesco avanço para a China.
Fazer uma máquina dessas sozinha não é para qualquer um.
A própria ASML produz suas máquinas com peças e tecnologias de vários países.
Muito interessante.
Os Estados Unidos tentaram paralisar a China bloqueando máquinas, peças, manutenção e tecnologia.
Tudo com a sutileza de quem quebra as pernas do adversário e depois elogia a livre concorrência.
Pequim respondeu iniciando a produção de suas próprias máquinas de litografia DUV. Elas ainda estão atrás das melhores máquinas ocidentais, mas já reduzem a dependência estratégica.
O bloqueio, apresentado como demonstração de poder, acabou financiando a urgência tecnológica chinesa.
É o tipo de golpe tão baixo que todos percebem, menos quem o aplica e ainda espera aplausos.
Os EUA parece acreditar que sabotagem econômica vira princípio moral quando recebe um nome elegante.
Quem pretendia preservar eternamente o monopólio pode ter acelerado o nascimento do concorrente.
No fim, o ridículo não está apenas na brutalidade da ação, mas na surpresa diante da reação.
Parabéns China parabéns. Vai chega lá e rápido…. E tenho certeza que você vai dividir com o resto do mundo… Al contrário dos europeus e americanos…
Se eles conseguirem chegar em modelos com eficiência próxima aos modelos ocidentais o escudo de silício cai por terra… (e vendo o avanço chines nos últimos anos não é uma questão de se vão mas de quando vão chegar).
Além disso vai ser um prego no sapato dos EUA e muito difícil de ignorar já que eles apostaram tudo na dominância desse setor pra conter a China se perderem isso sua estratégia de contenção já era…